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單晶爐需要控制的方面
單晶爐需要控制的方面
更新時間:2011-07-04 點擊次數(shù):2210
單晶爐需要控制的方面
單晶爐是一種在惰性氣體環(huán)境中,用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生長無錯位單晶的設(shè)備。
一、晶體直徑
二、溫度
三、原料
四、泄漏率,氬氣質(zhì)量等
深圳市利方達科技有限公司
在香港、深圳、上海開設(shè)了子公司;公司專注國外的真空、鍍膜設(shè)備核心部件、儀器、零部件的代理銷售、服務(wù)、以及各種真空非標(biāo)準系統(tǒng)的生產(chǎn)開發(fā),同時向國外宣傳和銷售國內(nèi)的產(chǎn)品;主要產(chǎn)品:
真空測量儀
,
氣體流量計
,
真空鍍膜機
,
三洋伺服電機
等。公司擁有雄厚的技術(shù)力量和的員工團隊,*的服務(wù),為客戶提供*的真空配備方案,解決客戶真空應(yīng)用難題,使客戶成本降到zui低;為此我們得到了業(yè)界的稱譽,擁有了大量的客戶群體。我們將更一如繼往努力的維護客戶,回報客戶對我們的信任。期待你的來電!!
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